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“可镁科学讲坛”第九十六期——90nmArF光刻胶和10-5 nm分辨率DSA光刻图形化材料的研发

2019年12月2日下午2点半,第九十六期“可镁科学讲坛”如期而至,本次讲坛邀请到了来自复旦大学微电子学院的邓海教授。作为本次讲坛的主讲人,邓海教授在泉港楼优尔报告厅为我院师生带来了一期题为“90nmArF光刻胶和10-5nm分辨率DSA光刻图形化材料的研发”的报告,很多对相关领域感兴趣的师生前来聆听。

本次报告,邓海教授首先就目前全球半导体行业的具体形式进行了详细的讲解,并对我国半导体行业面临的问题和不足之处一一展示。紧接着邓海教授引出了光刻胶和光刻材料在半导体行业中举足轻重的地位。90 nm-38 nm分辨率的ArF光刻胶是核心关键材料也是卡脖子材料,但是却完全依赖于进口。最后,邓海教授展示了他们团队成功开发出的ArF光刻胶,其产品性能已经与商用光刻胶相当。同时,邓教授课题组还研发了10-5 nm LS的DSA图形化材料,合成了一系列具有5 nm分辨率的DSA材料,有望在3 nm节点及以下的半导体工艺中得到应用。邓海教授的成果填补了国内空白,极大鼓舞了人心。

报告的最后,同学们就光刻胶的表征方式及性能的判定同邓海教授进行了深入的探讨交流。同学们受益匪浅,并献上了热烈的掌声。第九十六期“可镁科学讲坛”圆满地结束。

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